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• 可实现自动连续高温处理注入
• 1价离子可注入至350keV、2价离子可注入至700keV
(Option:1价离子可注入至430keV、2价离子可注入至860keV)
• 通过Dual-End-Station(双工位)实现高产能;
(A系4"高温ESC/B系3"高温ESC、A系6"高温ESC/B系6"常温ESC等等,可配合客户的希望就行规格配置)
• 可减轻操作员的负担
• 紧凑式设计
• 可大范围对应从试作到量产的各类需求
• 对应SiC的离子注入装置。